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精密恒溫水槽（室溫+5℃～90℃） 精密恒溫水槽提供一個(gè)溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱或輔助加熱熱源，可實(shí)現(xiàn)室溫+5℃～100℃溫度控制，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度±0.05℃，在樣品保存、分析測試、石油、化工、電子儀表、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學(xué)、輕工食品、物性測試及化學(xué)分析等行業(yè)被廣泛運(yùn)用。

低溫恒溫循環(huán)槽（-5℃～90℃）MD5-54，容積54L，控溫范圍-5℃～90℃，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度±0.05℃

低溫恒溫循環(huán)槽（-5℃～90℃），MD5-100提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度±0.05℃。

低溫恒溫循環(huán)槽（-5℃～90℃），MD20-4可直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制，半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用

低溫恒溫循環(huán)槽（-5℃～90℃）MD20-8可直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制，半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式或外循環(huán)應(yīng)用